环形抛光机的最大特点是加工精度高,效率突出,可以稳定地实现大孔径构件 (Ø400-2000mm) 表面形状1/20 λ 的精度要求。投环机的产品已投入国防和航空航天领域的国家重大项目。
在光学抛光中的应用大大提高了光学元件的制造精度和效率。以下是数控技术在光学抛光中的一些主要应用: 高精度控制: 数控技术可以实现抛光刀具和工件位置的高精度控制,确保抛光过程的每一步都能达到预期的精度。这是必不可少的表面质量和形状精度待售光学元件。
IBF的主要优点是非接触式加工方法,避免了传统方法中机械刀具接触造成的潜在损坏。IBF特别适用于非球面加工,提供极高的稳定性和精度,并防止亚表面损坏。
基于CCOS原理的光学元件的离子束抛光利用离子束代替传统的抛光头,通过离子束与光学元件之间的离子溅射效应去除表面材料的光学元件,基于稳定的离子源技术和精确的数控技术,离子束抛光还具有高精度,高收敛性的特点。
磁场中的磁流变抛光液。磁流变液主要由离散的微米级磁性颗粒、载流体和表面活性剂组成。它具有磁性、流变性和稳定性等特点。
当没有外加磁场时,磁性颗粒分布不规则,磁流变液是可流动的液体。在外加磁场的感化下,磁性颗粒呈链状散布,其流变性质急剧 (毫秒级) 变更,显示出类固体性质。去除磁场后,它将立即恢复到原来的液体性质。
采用计算机控制光学表面 (CCOS) 抛光技术。根据建立的数学模型,通过控制磨头在加工表面上的运动路径、相对压力和驻留时间来控制材料去除量。它比传统抛光工艺具有更高的抛光效率,并具有更高的表面形状精度指标。
百纳光学拥有先进的光学真空镀膜设备。系统单元和整体结构很好地适应了光学薄膜生产工艺的要求,适用于各种薄膜系统的镀膜,如减反射膜,带通膜和截止膜。它配备了高精度的膜厚控制系统,性能优良的电子枪,自动化程度高的镀膜控制系统,是高精度光学薄膜的理想电镀设备。